Заземление цилиндра

Для этих характеристик принципиальным является насыщение разрядного и ионного токов, когда увеличение напряжения не приводит к росту вышеуказанных. В этом случае прирост напряжения приводит только к увеличению энергии электронного и ионного потоков. В силу того, что ионный ток и ток разряда после достижения насыщения не изменяют своего значения, коэффициент К остаётся постоянным в широком интервале напряжений разряда.

Диаметр отверстий также оказывает влияние на величину разрядного и ионного токов. Диаметр цилиндра 92 мм, высота 195 мм.

Как видно из этого рисунка, ток разряда при изменении диаметра отверстия изменяется по параболической зависимости, а ионный ток при тех же условиях стремится к насыщению. В результате коэффициент К с ростом диаметра отверстия уменьшается.

Также представляет интерес распределение плотности ионного тока вдоль образующей цилиндра. Проводились измерения ионного тока на зонд, находящийся так же, как и цилиндр под отрицательным потенциалом относительно плазмы внутри объёма цилиндра.

Как видно из рисунка, по мере удаления от плоскости отверстий плотность ионного тока падает из-за снижения степени ионизации газа, поскольку уменьшается энергия электронов, ускоренных в области отверстия.

Путём локального сужения положительного столба газовой вакуумной дуги можно существенно увеличить степень ионизации плазмы. Величина ионного тока на распыляемую мишень составляет около половины тока разряда. С увеличением напряжения как на разряде, так и на мишени соответственно ток разряда и ионный ток стремятся к насыщению, причём величина напряжения, при котором оно наступает, составляет около 100 В. С увеличением сечения отверстий разрядный ток увеличивается экспоненциально, а ионный стремится к насыщению, что приводит к снижению коэффициента К.