Замена аргона

Полученные результаты однозначно свидетельствуют о том, что исследуемая система является эффективным средством для формирования композиционных наноструктурных плёнок (покрытий) на основе двух металлов с возможностью регулировки относительного содержания компонент в процессе осаждения покрытия. Показано, что концентрация составляющих конденсата зависит как от концентрации металлических компонент плазмы, которые поступают к поверхности конденсации, так и от давления и природы газа, присутствующего в зоне осаждения, в частности - от распыляющей способности этого газа. При этом сохраняется одно из важнейших преимуществ исследуемой системы - возможность осаждения покрытий с однородным распределением толщины по площади, значительно превышающей площадь, обрабатываемую с помощью любой другой известной системы аналогичного назначения. Однако получаемые покрытия неоднородны по фазовому составу. В этом отношении требуются дальнейшие работы по усовершенствованию системы.

Характерной особенностью большинства покрытий из тетраэдрического аморфного углерода является наличие в них сильных сжимающих механических напряжений вплоть до нескольких гигапаскалей. Вследствие этого были предложены механизмы, в рамках которых рассматривалось образование или стабилизация ta-C-фазы под действием механических напряжений.

Дэвис представил простую модель для объяснения образования механических напряжений сжатия, зависящих от энергии ионов, в тонких пленках, выращиваемых методом осаждения ионного пучка, либо конденсацией атомов с одновременной ионной бомбардировкой. В этой модели механические напряжения сжатия в тонкой пленке вычисляются с учетом двух конкурирующих процессов: генерации напряжений за счет имплантации падающего пучка ионов и отпуска напряжений благодаря термически активированным процессам релаксации в тепловых пиках имплантируемых ионов.