Толщина вольфрамовой пленки

Поверхностная плотность С растет при флюенсе 1.5 IQ см2, а после перестает расти, и только колеблется вокруг своего равновесного значения. Под равновесным значением здесь понимается значение поверхностной плотности С после того, как установилось равновесие между потоком имплантированных атомов С и атомов, покидающих поверхность вследствие распыления или отражения. При этом поверхностная плотность атомов С остается постоянной.

Расчетные данные показывают хорошее соответствие экспериментальным измерениям, хотя при малых флюенсах количество имплантированного С недооценивается. Это связано с наличием небольшого количества С на поверхности образца до облучения, которое появилось вследствие воздействия атмосферы. Однако, воздействие этого фактора полностью нейтрализуется дальнейшим облучением образца, и, таким образом, равновесное значение поверхностной плотности от него не зависит. При флюенсах 1.5x1018 см2 разброс измерений в экспериментах связан с отклонением токов пучков от средних значений вследствие флуктуации тока в магнитах масс-сепараторов.

Форма профиля концентрации по глубине практически не зависит от соотношения количества налетающих ионов. Высота профиля тем выше, чем выше относительная концентрация ионов С в потоке рост как функции концентрации ионов в налетающем потоке. При этом при малых значениях концентрации С в потоке наблюдается очень хорошее соответствие равновесных величин. При больших значениях концентрации С в потоке флуктуации тех физических параметров установки, которые влияют на соотношение ионов в потоке, оказывают большее влияние на количество имплантированного С. Здесь расхождение результатов расчетов и экспериментов связано с ограниченными техническими возможностями данной установки. Для того, чтобы преодолеть этот недостаток, требуются больше измерений поверхностной плотности при больших флюенсах, что будет возможно при соответствующей модернизации установки.