Степени очистки

Плазменный источник с фильтром для удаления МЧ - ключевой инструмент, от степени совершенства которого зависят перспективы практического применения такой уникальной технологии как вакуумно-дуговое осаждение покрытий. Успехами в разработке этих систем определяются темпы освоения новой технологии в таких областях как микроэлектроника, оптика, точная механика, которые во многом определяют ход технического прогресса в целом. Причем, на данном этапе решения обсуждаемой проблемы узловой её частью является совершенствование фильтрующей компоненты систем. Сказанное в полной мере и, пожалуй, в первую очередь относится к проблеме формирования потоков чистой углеродной плазмы в технике осаждения высококачественных алмазоподобных углеродных пленок (покрытий).

Накопившиеся к настоящему времени сведения о физике генерирования МЧ вакуумно-дуговым разрядом, о способах подавления эмиссии этих частиц, об источниках плазмы, в которых реализованы такие способы, рассеяны во множестве публикаций. Систематизация этих сведений представляется актуальной задачей. Что касается плазменных фильтров, то, как уже отмечалось, материалы на эту тему собраны в ряде работ. Однако в связи с быстрым развитием техники в этом направлении упомянутые публикации уже не отражают современное состояние проблемы.

В настоящей работе приведен краткий анализ известных бесфильтровых методов снижения концентрации МЧ в потоках вакуумно-дуговой эрозионной плазмы, описаны 11 генераторов плазмы с бесфильтровым подавлением эмиссии МЧ, приведены реферативные описания 27 вакуумно-дуговых источников с магнитоэлектрическими плазменными фильтрами.

Исследованию механизмов эмиссии МЧ, их движению и взаимодействию с плазмой разряда и с поверхностью конденсации посвящено большое количество работ, результаты которых систематизированы в ряде обзорных статей и монографий.