Скорость напыления

Исследования морфологии поверхности и микроструктуры поперечного излома покрытий проводились с помощью оптического микроскопа, сканирующего электронного микроскопа Philips SEM 515 и атомно-силового микроскопа (AFM) Solver - Р 47. Рентгеноструктурный анализ проводился на дифрактометре XRD - 600 на СиК0 - излучении. Толщина YSZ-пленок измерялась на микроинтерферометре МИИ - 4.

Для исследования влияния различных параметров процесса осаждения на характеристики пленки были получены образцы пленок электролита на пористых подложках при следующих условиях: Магнетронное распыление на постоянном токе (DC-режим).

Магнетронное распыление на постоянном токе с подачей отрицательного электрического смещения на подложку.

Магнетронное нанесение пленок на подложку, предварительно имплантированную ионами титана (DC-режим).

Аналогичные эксперименты были проведены при питании магнетрона от импульсного источника питания (pulse-DC-режим).

Морфология поверхности и микроструктура поперечного излома пленок YSZ электролита, полученных на NiO-YSZ-подложках магнетронным распылением постоянном токе. Морфология поверхности и микроструктура поперечного излома пленок, нанесенных при импульсном питании магнетрона, во всех случаях имеют аналогичный вид.

Исследования поверхностной морфологии показали, что поверхности имеют зернистую шероховатую структуру, повторяющую структуру исходной подложки для обоих режимов напыления. Размер зерна для покрытий, полученных в DC - и pulsc-DC-режимах изменяется в диапазоне 1 - 2.7 мкм, а вычисленная для данных образцов величина шероховатости составляет 120-160 нм. На поверхности некоторых образцов были видны не до конца закрывшиеся поры, что говорит о недостаточной толщине покрытия. Во всех экспериментах толщина покрытий для разных образцов изменялась от 2 до 8 мкм.