Системы питания импульсных источников плазмы

При этом на катоде возникает униполярная дуга, которая потом переходит в основной разряд между катодом и анодом. Область эрозии катода расположена симметрично относительно места поджига. Для равномерной эрозии (выгорания) катода предусматривается сканирование его поверхности лазерным лучом. Выбор авторами высокой частоты следования импульсов разряда (до 500 Гц) при малой их длительности позволил существенно уменьшить содержание МЧ в плазме и их размеры, которые не превышали 1 мкм.

Серьёзным недостатком метода лазерного поджига является запыление окна ввода луча в камеру. Примерно через две секунды работы источника с графитовым катодом из-за осаждения углеродной плёнки прозрачность окна уменьшается на 60%. Для защиты окна от запыления перед ним устанавливается лента из прозрачного полимерного материала. Во время работы источника лента движется перед окном, непрерывно обновляя его прозрачность. Лазерный поджиг представляется весьма перспективным, хотя к настоящему времени из-за сложности и высокой стоимости лазерной системы этот метод пока что и не вышел за рамки лабораторных применений.

Нетрадиционные схемы источников бескапельной плазмы. Авторами работы предложен, исследован и описан вакуумно-дуговой источник. Действие источника основано на смешении потоков частиц. Один из них генерируется катодным пятном вакуумной дуги источника с магнитной стабилизацией и фокусировкой. Другой поток состоит из атомов мишени, распыляемой ионами первого потока. Таким образом, эффект снижения концентрации МЧ, достигаемый фокусировкой первичного потока, усиливается смешением последнего с дополнительным бескапельным потоком атомов распыляемой мишени. Интенсивность дополнительного потока повышается в присутствии аргона. Концентрация распылённых атомов достигает 100% при давлении аргона - 2 Па.