Максимальные величины

Время нахождения пятна в том или другом месте катодного рельефа или уход его за край рабочей поверхности (на боковую поверхность электрода) может длиться секунды. В режиме постоянного тока, когда рабочий процесс длится десятками минут и более, этого времени достаточно для того, чтобы усреднённый по нему ионный ток (и, следовательно, количество конденсата) был практически неизменным от процесса к процессу. Девиации тока начинают проявляться по мере сокращения длительности процесса, в течение которого регистрируется что характерно при осаждении сверхтонких плёнок. Поэтому при использовании плазменных источников описанного типа, для гарантии высокой степени воспроизведения требуемой толщины таких плёнок, целесообразно контролировать скорость их осаждения дополнительными средствами.

Таким образом, в источнике плазмы исследуемой конструкции с титановым катодом при согласном включении магнитных катушек эффективность прохождения плазмы от катода к выходному торцу анода повышается с ростом индукции магнитного поля, и при В/ 7,5 мТл коэффициент т составляет 6,5%. С дальнейшим усилением магнитного поля горение дуги становится нестабильным. Размещение в аноде решётчатой вставки обеспечивает устойчивое горение разряда при магнитном поле до 22 мТл при т 8%. Указанная величина, в свою очередь, создает оптимальные условия вхождения (без отражения) плазмы в поле плазмовода с В, 27 мТл. В отсутствие анодной вставки аналогичный результат достигается при встречном включении части фокусирующих катушек, т. е. при формировании в аноде остроугольной структуры магнитного поля с кольцевой щелью у стенок анода. Смещение магнитной щели ко входному или выходному торцам анода ведёт к неустойчивому горению и нестабильному под-жигу дуги.

Для источника углеродной плазмы характерны большие хаотические отклонения ионного тока от его средней величины: девиация, достигает 50% и даже больше.