Изменение фазового состава

С увеличением 500°С превалируют процессы отжига дефектов, релаксации искажений. В результате наблюдается монотонное снижение, полуширины дифракционных максимумов (не приводятся), изменение фазового состава и типа текстуры.

Характер зависимости от температуры конденсации, определяемой энергией ионов при изменении от - 100 до -300 В, оказывается аналогичным характеру зависимости Ну от покрытий в том же интервале температур и свидетельствует об отжиге дефектов, снижении уровня искажений в материале покрытия в процессе осаждения.

С дальнейшим повышением температуры конденсации при НФ=100Э, обусловленной изменением U от - 100 до - 300 В так же, как и в случае отжига в вакууме в интервале То 600-800°С, кривая зависимости Ну от То стабилизируется на уровне, определяемом минимумом искажений кристаллической решетки соединения и концентрацией в нем.

Общей закономерностью является монотонное снижение значений параметра от 0,4262 до 0,4232 нм при увеличении от 330 до 750°С. Однако для каждого из выбранных значений НФ обнаруживается характерная особенность в изменении в зависимости от так же, как и в зависимости. Она заключается в экстремальных значениях (а) и (а) в области величин U - 200 В и обусловленных. Но с увеличением Тк 600°С эти особенности в значительной мере сглаживаются.

Учитывая то, что увеличение НФ от 0 до 100 Э не влияет на энергию ионов осаждаемых потоков, наблюдаемые изменения с увеличением НФ обусловлены эффектом фокусировки потоков и соответствующим увеличением плотности ионного тока. Из этого следует, что значения параметра решетки (а; и (а) покрытии, получаемых в области изменений - 200 В и Нф 35 Э, определяются не только соответствующими изменениями, но и существенным влиянием эффектов радиационного воздействия осаждаемых потоков на процессы зарождения и роста формирующихся покрытий.