Исследования микроструктуры

Дифракционные картины пленок YSZ, полученных при указанных выше режимах работы магнетронной распылительной системы. Было обнаружено, что на дифрактограммах пленок YSZ присутствуют в основном линии кубического оксида циркония (ZrCb), ориентированного в направлении, и лишь незначительная доля моноклинной фазы Zr02 ориентации присутствует в пленках YSZ, полученных при DC - и pulse-DC-напылении, а также при напылении в DC-режиме на предварительно имплантированную анодную подложку. Кроме того, были зафиксированы линии металлического №. Линии Zr02 дает пленка, Ni - восстановленная подложка. Наряду с преимущественной ориентацией наблюдается рост покрытий в направлениях. Наиболее совершенная текстура получена при напылении в DC-рсжиме на предварительно имплантированную подложку.

Показана перспективность использования метода магнетронного распыления для формирования плотных бездефектных пленок электролита.

Основными выводами, вытекающими из результатов, полученных при выполнении настоящей работы, являются следующие: структура зерен подложки задает структуру зерен пленки. Для получения более плотных и однородных пленок электролита меньшей толщины необходимо использовать подложки с порами меньшего диаметра (желательно иметь наноструктурированную подложку); применение предварительной ионной имплантации пористой подложки позволяет изменять структурные и механические свойства получаемых покрытий, увеличить адгезию и площадь контакта системы подложка-пленка, а при напылении с импульсным режимом работы позволяет существенно подавить столбчатую структуру; магнетронное напыление как в DC, так и в pulse-DC-режимах обеспечивает формирование пленок электролита с кубической кристаллической структурой и преимущественной ориентацией в направлении, что соответствует максимально плотной упаковке атомов на поверхности. Наличие такой текстуры облегчает движение ионов через пленку, улучшая характеристики электролита.