Эксплуатационные характеристики

Затем проводилось их восстановление при 900 °С с часовой изотермической выдержкой в увлажненном водороде. Их открытая пористость после окисления и восстановления составляла 28 и 45 % соответственно. Размер гранул составляющих подложку изменялся от 1 до 3 мкм, размер пор 1-2 мкм.

Эксперименты проводились на вакуумной установке, оснащенной несбалансированной магнетронной распылительной системой с дисковым катодом, выполненным, диаметром 120 мм и толщиной 8 мм. Вакуумная камера размерами 600 х 600 600 мм откачивалась до остаточного давления 6х103Па турбомолекулярным насосом 01АБ - 1500 - 004. Эксперименты проводились в Аг/02-атмосферс. Расход рабочих газов (аргона и кислорода) контролировался электронными регуляторами расхода газа РРГ - 9. Диапазон изменения рабочих давлений составлял 0.2 - 0.25 Па. Перед нанесением покрытий проводился нагрев подложек до температуры 300 °С нихромовым нагревателем, расположенным за подложкой. Температура нагрева контролировалась термопарой.

В экспериментах по реактивному магнетронному распылению использовались два типа источников питания магнетрона: источник питания постоянного тока, оснащенный системой дугогашения, и биполярный импульсный источник питания. Рабочее напряжение изменялось в пределах от 330 до 390 В, рабочий ток от 4.1 до 5.6 А, мощность магнетрона составляла 1, 1.5 и 2 кВт. Плотность ионного тока для постоянного и импульсного режимов работы магнетронной распылительной системы равнялась 12мА/см2 и 0.3 мА/см2 соответственно. Скорость напыления около 3 мкм/ч была достигнута при мощности магнетрона 2 кВт.

Ряд экспериментов по напылению пленок тонкопленочного электролита осуществлялся в сочетании с эффективными методами поверхностной модификации, а именно, использование предварительной ионной имплантации пористой подложки ионами титана, а также подача импульсного отрицательного напряжения к образцу в процессе напыления. Величина импульсного напряжения, подаваемого с частотой 40 кГц и длительностью 10 мке, изменялась в диапазоне 70 - 700 В. Предварительная имплантация поверхности пористой анодной подложки ионами титана осуществлялась при напряжении 40 кВ в течение 10 мин. Доза имплантированных ионов составляла 10 16 ион/см2.