Атомы азота

Атомы азота могут принимать участие в реакциях образования нитридов или диффундировать в глубь металла, создавая твердый раствор. Этот процесс может сильно тормозиться вплоть до полного прекращения в случае интенсивного образования в слоях, близлежащих к границе газ-поверхность, нитридных пленок, особенно в случаях, когда поверхность содержит азотоактивные компоненты, а параметры технологического режима не способствуют распылению поверхностных слоев.

Таким образом, в принципе при модификации поверхности в тлеющем разряде могут иметь место следующие процессы (имеются в виду общие процессы образования диффундидов и твердых растворов диффузантов): адсорбция частиц газа на поверхности с формированием практически сплошного слоя и частичная десорбция их в результате как теплового влияния, так и бомбардировки частицами падающего потока; передача энергии от частиц падающего потока частицам поверхности с нагреванием ее до рабочей температуры процесса, стимулирующим термоэлектронную эмиссию; стимулирование ионно-электронной и ударно-электронной (от нейтральных частиц падающего потока) эмиссий; распыление атомов и фрагментов поверхности с последующим осаждением их под действием направленного движения потоков на поверхностях обрабатываемы деталей, оборудования или удаление из разрядной камеры; столкновения атомарных ионов диффузантов с атомами поверхности или атомами, которые входят в распыленные фрагменты поверхности, и последующее образование диффундидов; столкновения молекулярных ионов с поверхностью и в зависимости от энергетического уровня, возможными рекомбинацией или диссоциативной рекомбинацией, образованием атомарных диффузантов и на их основе созданием диффундидов или твердых растворов; ударная диссоциация или ионизация молекулярных частиц, адсорбированных поверхностью, с последующей диссоциативной рекомбинацией, образованием атомарных диффузантов и на их основе созданием диффундидов или твердых растворов; преобразование диффундидов в направлении от низших к высшим по схеме привлечения атомов матрицы; диффузия атомарных частиц и диффундидов в глубину поверхности; упругие столкновения заряженных частиц падающего потока с поверхностью и отражение их в газовую среду, вторичная бомбардировка поверхности, включая возможность вышеперечисленных процессов, характерных для частиц определенного вида и энергии; ударная имплантация частиц газовой среды и проникновение их и частиц компонентов поверхности под действием падающего потока в глубину поверхностного слоя с образованием твердых растворов; резонансная перезарядка на металле с диссоциативной рекомбинацией молекулярного иона диффузанта и созданием диффундида.